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Besuchen Sie uns am Stand B1313, um mehr über unser BATCHSPRAY^® Four System zu erfahren und zu entdecken, wie es helfen kann, Kosten zu senken und die Prozesseffizienz zu verbessern.

Siconnex, ein weltweit führender Anbieter für nasschemische Anlagen für die Halbleiterindustrie, hat eines seiner Kernprodukte umbenannt: Das bisher unter dem Namen BATCHSPRAY^® Autoload CLEAN bekannte Equipment wird nun als BATCHSPRAY^® Four vermarktet. Damit wird der Name an die Vielfalt und die strategische Positionierung der Anlage angepasst. Es wird im November dieses Jahres auf der SEMICON Europa 2025 in München vorgestellt.

Zum ersten Mal findet die SEMICON West vom 7. bis 9. Oktober in Phoenix, Arizona statt – und wir sind mit dabei.

Halbleiter-Fabs arbeiten aktiv an ihre Prozesse um das Optimum an Nachhaltigkeit und Kostenersparnis zu erzielen. Die Verwendung von Ozon für die Reinigung unterstützt die Bemühungen in diese Richtung maßgeblich. Mit der BATCHSPRAY^® Technologie und dem SicOzone™-Verfahren werden ein hoher Durchsatz bei einem geringen Medienverbrauch gewährleistet. Darüber hinaus wird mit der Spiking-Technologie mit Ozon ein Sauberkeitsniveau erreicht, das dem herkömmlicher Methoden gleichkommt.

Siconnex bietet hochmoderne Lösungen wie perc™, sicOzone™ und die BATCHSPRAY^®-Technologie an, um Kunden weltweit dabei zu helfen, den Chemikalienverbrauch und die Kosten erheblich zu senken.

Siconnex kooperiert mit der Yokogawa Solution Services Co., Ltd., einem in Tokio ansässigen Anbieter von Mess- und Prozesssteuerungslösungen, um den japanischen Markt zu erschließen.

Wir freuen uns, Teil der SEMICON^® Japan zu sein, und laden Sie herzlich ein, uns am Stand 3014 zu besuchen.

Polymerrückstände im Trockenätzverfahren stellen eine häufige Herausforderung in der Halbleiterfertigung dar. Obwohl diese Methode Präzision und Effizienz bietet, können dabei Verunreinigungen zurückbleiben – die nachfolgende Prozesse stören können. Gleichzeitig eröffnen sich jedoch erhebliche Möglichkeiten für Ressourcen- und Kosteneinsparungen. In diesem Artikel erfahren Sie, wie Sie durch den Verzicht auf Lösungsmittel in Ihrem Reinigungsprozess Kosten senken und dennoch eine 100%ige Entfernung der Polymerrückständen bei der Wafer-Verarbeitung erreichen können.

Wann: Freitag, 18.10.2024, ab 13:30 Uhr
Wo: Siconnex, Gewerbestraße 2, 5322 Hof bei Salzburg

Mit großer Freude und Stolz geben wir bekannt, dass Siconnex den renommierten Exportpreis 2024 der Außenwirtschaft Austria in der Kategorie Handwerk & Gewerbe gewonnen hat. In einem stark besetzten Feld konnte sich Siconnex gegen zahlreiche Firmen durchsetzen und damit einen beachtlichen Erfolg feiern.

Wo Silizium an seine physikalischen Grenzen stößt, eröffnet Siliziumkarbid neue Möglichkeiten und finden daher vor allem in der Leistungselektronik zunehmend Verwendung. Die Eigenschaften, die die Leistung elektronischer Bauteile optimieren und gleichzeitig die Umwelt beitragen, sprechen für sich.

In der Dienstagsausgabe vom 13.02.2024 der Salzburger Nachrichten wurde über den Besuch des französischen Botschafters, Gilles Pécout, beim Halbleiteranlagen-Hersteller Siconnex berichtet.

Stäubli Robotics vergibt österreichweit Auszeichnungen für herausragende Automationsprojekte.

Siconnex freut sich, Teil von SEMICON^® Japan zu sein.

Wir danken Ihnen für Ihren Besuch und dafür, dass Sie diese Messe zu einem großen Erfolg gemacht haben.

Siconnex freut sich, an der SEMICON^® Europa teilzunehmen.

Siconnex wird auf der UCPSS 2023 in Belgien stark vertreten sein.

Wir blicken auf eine erfolgreiche Messe zurück und danken für Ihren Besuch.