Siconnex

BATCHSPRAY® Technologie

Unsere innovative BATCHSPRAY®-Technologie basiert auf einem geschlossenen System, in dem chemische Reinigungs- und Ätzprozesse äußerst effizient durchgeführt werden. Verschiedene chemische Prozesse, einschließlich Spülen und Trocknen, werden vollautomatisch in einer Prozesskammer durchgeführt. Die Prozesskammer kann für einen Träger mit 25 Wafern oder zwei Träger mit 50 Wafern je nach Bedarf konzipiert werden. Dank unserer Autoladegeräte können bis zu vier Kammern gleichzeitig beladen werden, um Durchsätze von bis zu 600 Wafern pro Stunde zu ermöglichen.

Warum BATCHSPRAY®?

Verbrauch reduzieren

Der Verbrauch von Chemikalien und Prozessmedien wird erheblich reduziert, die Ressourcen geschont und damit aktiv zur Nachhaltigkeit beiträgen.

Produktqualität par ex­cel­lence

Hochentwickelte Halbleiterprodukte und fortschrittliche Technologien steigern die Leistung und Zuverlässigkeit.

Reduktion von Abwasser

Wir fördern Nachhaltigkeit in jedem Schritt. Auch die Reduzierung des Abwassers liegt in unserem Bestreben und zeichnet unsere Produkte aus.

Anwender-Sicherheit

Durch modernste Fortschritte legen wir besonderen Wert auf die Steigerung der Benutzersicherheit und gewährleisten eine sichere und zuverlässige Handhabung.

Reduzierung des Reinraumplatzes

Mit unseren Anlagen erreichen wir eine signifikante Reduzierung des benötigten Reinraumplatzes und gewährleisten eine erheblich höhere Produktivität pro Quadratmeter.

BATCHSPRAY® Technologie

Schont Ressourcen und reduziert Betriebskosten

Mehrere Düsen und die Rotation der Wafer während des Prozesses gewährleisten ein absolut gleichmäßiges Sprühmuster von Chemikalien auf den Wafern mit einer Schwankungsbreite von unter einem Prozent. Darüber hinaus reduziert unsere Siconnex BATCHSPRAY®-Technologie die relevanten Gesamtbetriebskosten im Vergleich zu Nassbänken um bis zu 80 Prozent.

0%
Reduzierung der Betriebskosten*

*Im Vergleich zu herkömmlichen Nassbänken

Videos

Gleichmäßiges Sprühmuster

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BATCHSPRAY® Autoload 300