Nasschemische Anlagen für die Halbleiterindustrie
Siconnex ist ein Name in der Halbleiterindustrie und bietet innovative Lösungen für Ätz-, Reinigungs- und Resist-Stripping-Anwendungen. Unsere innovativen Produkte stehen für Kosteneffizienz und Nachhaltigkeit. Führende Halbleiterunternehmen weltweit erzielen erhebliche Einsparungen mit unseren Lösungen.
Für jeden IC Fertigungsschritt
Ätzen, Reinigen und Photolack entfernen
Siconnex bietet eine Vielzahl unterschiedlicher Nassprozesse, um die breite Palette der Kundenanforderungen abzudecken. Durch den Fokus auf die BATCHSPRAY®-Technologie erzielen wir herausragende Prozessergebnisse und arbeiten kontinuierlich an Verbesserungen, um die höchste Qualität sicherzustellen.
Fraunhofer IZM Berlin modernisiert die Wafer-Reinigung mit Siconnex BATCHSPRAY® Acid
Das Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration IZM in Berlin hat erfolgreich eine Siconnex BATCHSPRAY® Acid-Anlage in Betrieb genommen. Nach erfolgreichem Hook-up und der Qualifizierung des Systems verabschiedet sich das Institut von der manuellen Nassreinigung und setzt künftig auf eine vollautomatisierte Lösung in einem geschlossenen System.
Damit geht das Institut einen wichtigen Schritt zur Standardisierung von Prozessen innerhalb der neuen APECS-Pilotlinie, dem hochmodernen Entwicklungszentrum für Advanced Packaging.Quantentechnologie: Siconnex und Silicon Austria Labs (SAL) gehen strategische Partnerschaft ein
Der österreichische Anlagenbauer Siconnex und das Forschungszentrum Silicon Austria Labs (SAL) haben eine Absichtserklärung (Memorandum of Understanding, MoU) unterzeichnet. Im Mittelpunkt dieser Zusammenarbeit steht die europäische Pilotanlage „CHAMP-ION“.
Welcome to the future. Welcome to Siconnex.