Die bewährten Vorteile unserer Resist-Strip-Anwendungen umfassen die Einsparung von Prozessmedien, die Verbesserung der Produktqualität und die Steigerung der Betriebssicherheit. Erfahren Sie mehr über Fotoloackentfernung mit der BATCHSPRAY® Technologie.
Prozesse mit BATCHSPRAY® Resist-Strip-Anwendungen
► Implanted Photo Resist Strip
► Positive and Negative
► Resist Rework
► Resist Strip
► SicOzone Strip
Resist Stripping
Photoresist Strip
Der Photolack wird entweder durch das SicOzone-Verfahren oder durch lösungsmittelbasierte Medien entfernt.
