perc™

100 %ige Reinigung von Polymeren

perc™ ermöglicht eine einfache und flexible Polymerreinigung. Aufgrund seiner einzigartigen Prozessflexibilität wird es zur Reinigung jeglicher Art von Polymerrückständen nach Trockenätzprozessen wie Metall-, Oxid-, Silizium- oder VIA-Ätzen eingesetzt.

Merkmale & Vorteile

100%ige Reinigung von Polymeren

perc™ wurde speziell für das Reinigen der Rückstände nach dem Trocken-Ätzverfahren entwickelt. Diese innovative Anwendung entfernt verschiedene Arten von Polymeren mit einer Erfolgsquote von 100 %.

Geeignet für verschiedene Trockenätzverfahren

Aufgrund seiner einzigartigen Prozessflexibilität wird es zur Reinigung aller Arten von Polymerrückständen nach Trockenätzprozessen wie Metall-, Oxid-, Silizium- oder VIA-Ätzen eingesetzt.

Genaue Konzentration

Das perc™ Verfahren basiert auf der Inline-Spiking-Technologie. Zur Reinigung der Wafer-Oberfläche wird DI-Wasser mit einer geringen Menge an sauren/alkalischen Medien verwendet. Die Einzigartikeit der Spiking- und Mischtechnologie garantiert eine genaue Konzentration und Durchflussmenge für jeden Wafer.

Geringer Verbrauch für einen nachhaltigen Effekt

perc™ passt aufgrund seines geringen Verbrauchs an DI-Wasser und chemischen Medien in jedes Nachhaltigkeitsprogramm.

► Einstellbar für jedes Polymer
► Flexible Anpassung der Parameter
► Mediennutzung zum Zeitpunkt der Anwendung
► Stabile Medienkonzentration
► Offene Prozesszeit
► Einmaliger Gebrauch der Medien
► Rekontamination wird vermieden
► Lösungsmittel sind überflüssig
► Einfache Abfallbehandlung
► 4-Kammer-System verfügbar
► 25-/50-Wafer-Kammer
► Verfügbar für 2-Zoll- bis 12-Zoll-Wafer
perc™

Gemeinsam in eine nachhaltige Zukunft

Die innovative Spiking-Technologie ermöglicht eine minimale Menge an Säuren im DIW-Strom, was zu einer erheblichen Verringerung des Chemieverbrauchs führt. Das perc™-Verfahren entfernt nicht nur Polymere, sondern ermöglicht auch eine präzise Kontrolle des Metallverlustes. Dies bietet eine Reihe von Vorteilen, wie z. B. die garantierte Reinigung von Polymeren, geringere Metallverluste, eine erhebliche Verringerung des Chemikalien- und Wasserverbrauchs, eine effiziente Abfallbehandlung und weitere Vorteile.

Polymer-Reinigung
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Steigerung des Durchsatzes
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Verringerung der Abfallbehandlung
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Verringerung des Chemikalienverbrauchs
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Senkung der Kosten pro Wafer
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Im Vergleich zu konventionellen Reinigungsverfahren

perc™

Post Etch Residue Clean

perc™ wurde speziell für das Reinigen von Polymer-Rückständen nach dem Ätzen entwickelt. Diese innovative Anwendung entfernt verschiedene Arten von Polymeren mit einer Erfolgsquote von 100 %.

PERC™

100%ige Reinigung der Polymere

Unsere besonderen Spiking- und Mischtechniken gewährleisten eine präzise Konzentrations- und Flusskontrolle für jeden einzelnen Wafer.

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Nachhaltigkeit

Green Goals. Yellow Solutions.

Technologie ist allgegenwertig, sie prägt unser tägliches Leben und macht es komfortabler. Siconnex definiert den Fortschritt neu, indem es Technologie und Nachhaltigkeit zusammenführt und nicht länger als Gegensätze darstellt. Nachhaltige Technologie für den Fortschritt von morgen. Green Goals. Yellow Solutions.

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