BATCHSPRAY®
Acid

機能全般

ばらつきが1%未満の均一性

制御されたウェーハ回転とスマートなケミカルスプレー量増加の組み合わせにより、優れた均一性が実現します。

最大150 wphのスループット

インテリジェントなウェーハ処理と経験豊富なウェーハ処理が融合します。

半自動

バッチがチャンバーに移送されると、プロセスフローはいくつかのプロセスステップを通じて自動化されます。

設置面積2 m²

プロセスモジュールの設置面積が小さく、スマートなウェーハ処理と組み合わせられます。

タンクシステムによる化学物質の再循環

化学物質を再循環させることで、安定した温度と濃度の状態が得られます。

SiC/GaNでプロセス実行可能

SiCおよびGaNの基板とそのプロセス向けに準備されています。

抽出可能なプロセスチャンバー
25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能

ウェーハサイズ

実現可能な用途

エッチング
洗浄
レジスト剝離
SicOzone

適切な機能

EPD

効率性の評価

この半自動のシングルチャンバーシステムは、2インチから12インチの基板の様々なウェーハサイズに対するあらゆるタイプのウェットエッチングプロセスに対応しており、タンク内の化学物質の混合を高い精度で行うことができます。組み込まれているエンドポイント検出(EPD)と化学物質の再循環により、優れたエッチングの均一性を達成でき、化学物質を節減することもできます。さらに、SicOzoneレジストストリップを同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上するだけでなく、処理ステップを減らすこともできます。

環境に配慮した目標。環境に配慮したリューション。

テクノロジーは私たちの周りにあり、私たちの日常生活を形作り、よりよいものにしています。Siconnexは、テクノロジーとサステナビリティを融合することで進歩を再定義しています。もはやそれらは対立物として示されません。明日の進歩のためのサステナブルなテクノロジー。環境に配慮した目標。環境に配慮したリューション。

よくある質問

乾燥のために、高温の窒素がチャンバ内に注入され、高速回転と低速回転を組み合わせてウェーハを回転させます。

ソフトウェアによって制御される標準的なリンスシーケンスにより、ウェーハとチャンバーが完全にリンスされることが保証されます。

装置内には4個のタンクがあります。

タンクのサイズについて、標準タンクの場合は16リットル、大容量タンクの場合は32リットルです。

タンクの加熱にはインラインヒーターが使用されます。

10インチのフィルターが使用可能です。

タンクごとに1つのプロセスがあり、タンクは4つあります。最大7つのプロセスをオゾンとその機能と組み合わせることができます。

はい、唯一の制限は温度であり、120°Cに制限されています。

化学物質の濃度モニタリングインターフェース(ハードウェアおよびソフトウェア)は各プロセスタンクに標準装備されております。プローブはお客様ご提供となります。

CO2混合DIW供給機能は、BATCHSPRAY® Solventの構成では標準装備されており、BATCHSPRAY® Acidの構成ではオプションです。

露出した金属層に適合する場合は、SicOzone プロセスを使用します。 そうでない場合は、ATEX非対応の装置で使用可能な不燃性の剥離液であれば使用することができます。

perc™は「Post Etch Residues Clean(エッチング工程後残滓洗浄)」の略で、よりサステナブルでコスト効率の高いアプローチでポリマー除去を行うために従来の溶剤を置き換えることを可能にする特許取得済みのSiconnexのプロセスです。