Fraunhofer IZM Berlin modernisiert die Wafer-Reinigung mit Siconnex BATCHSPRAY® Acid
Das Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration IZM in Berlin hat erfolgreich eine Siconnex BATCHSPRAY® Acid-Anlage in Betrieb genommen. Nach erfolgreichem Hook-up und der Qualifizierung des Systems verabschiedet sich das Institut von der manuellen Nassreinigung und setzt künftig auf eine vollautomatisierte Lösung in einem geschlossenen System.
Damit geht das Institut einen wichtigen Schritt zur Standardisierung von Prozessen innerhalb der neuen APECS-Pilotlinie, dem hochmodernen Entwicklungszentrum für Advanced Packaging.
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Prozessstabilität und Sicherheit für Advanced Packaging
Der Umstieg auf die Siconnex BATCHSPRAY®-Technologie eliminiert typische Schwankungsfaktoren manueller Reinigungsprozesse, wie variierende Tauchzeiten, Abweichungen bei der Chemikalienkonzentration oder das allgemeine Risiko von Bedienfehlern.Das geschlossene Anlagenkonzept hebt die Arbeitssicherheit auf ein neues Niveau und reduziert gleichzeitig den Chemikalienverbrauch sowie die Prozesszeiten deutlich. Dadurch verbessert sich auch die Cost of Ownership (CoO) nachhaltig.
Gerade für Forschungseinrichtungen und F&E-Abteilungen ist eine hohe Prozessflexibilität entscheidend. Die Anlage erfüllt diese Anforderungen optimal: Sie verarbeitet sowohl planare als auch strukturierte Wafer unterschiedlicher Größen und Materialien mit maximaler Ressourceneffizienz. Gleichzeitig gewährleistet sie hochreproduzierbare Oberflächenzustände und schafft damit ideale Voraussetzungen für nachgelagerte Schlüsselprozesse wie Oxidation oder Wafer-Bonding.
Das Fraunhofer IZM bestätigt diese Praxistauglichkeit:„Die Siconnex BATCHSPRAY® Acid wurde in die APECS-Pilotlinie des Fraunhofer IZM integriert, um standardisierte Wafer-Reinigungsprozesse zu unterstützen. Dank ihrer Flexibilität bei der Verarbeitung unterschiedlicher Wafer-Typen und -Größen erweitert sie das Anwendungsspektrum innerhalb der Reinraumumgebung. In Kombination mit ihrem kompakten Design, dem reduzierten Medienverbrauch und dem geschlossenen Betriebskonzept bietet die Anlage zuverlässige Prozessbedingungen für angewandte Forschung, Prozessentwicklung und Technologietransfer.“
Foto: © Fraunhofer IZM | Francis Viebeck