Nasschemische Anlagen für die Halbleiterindustrie
Siconnex ist ein Name in der Halbleiterindustrie und bietet innovative Lösungen für Ätz-, Reinigungs- und Resist-Stripping-Anwendungen. Unsere innovativen Produkte stehen für Kosteneffizienz und Nachhaltigkeit. Führende Halbleiterunternehmen weltweit erzielen erhebliche Einsparungen mit unseren Lösungen.
Ätzen, Reinigen und Photolack entfernen
Siconnex bietet eine Vielzahl unterschiedlicher Nassprozesse, um die breite Palette der Kundenanforderungen abzudecken. Durch den Fokus auf die BATCHSPRAY®-Technologie erzielen wir herausragende Prozessergebnisse und arbeiten kontinuierlich an Verbesserungen, um die höchste Qualität sicherzustellen.

Wafer-Reinigung: BATCHSPRAY® und SicOzone™ reduzieren den Chemikalienverbrauch erheblich
Halbleiter-Fabs arbeiten aktiv an ihre Prozesse um das Optimum an Nachhaltigkeit und Kostenersparnis zu erzielen. Die Verwendung von Ozon für die Reinigung unterstützt die Bemühungen in diese Richtung maßgeblich. Mit der BATCHSPRAY® Technologie und dem SicOzone™-Verfahren werden ein hoher Durchsatz bei einem geringen Medienverbrauch gewährleistet. Darüber hinaus wird mit der Spiking-Technologie mit Ozon ein Sauberkeitsniveau erreicht, das dem herkömmlicher Methoden gleichkommt.
Welcome to the future. Welcome to Siconnex.
